三星先进制程工艺良率不达标 竞争不过台积电

admin 阅读:103 2024-11-07 19:01:23 评论:0
据韩媒报道,三星电子的第1、2代3nm工艺(SF3E-3GAE与SF3-3GAP)目前的良率分别为60%和20%左右。这一水平并未达到潜在客户(如高通、英伟达)所要求的70%,因此三星无法在最先进制程上与台积电争夺订单,这直接影响了三星尖端逻辑工艺投资的收益能力。作为一家具备IDM特征的企业,三星DS部的存储器、系统LSI、Foundry三大业务实际上相互关联。如果系统LSI设计的自家Exynos处理器能够由Foundry顺利制造,并且外界也认可Foundry的技术水平,那么这将吸引更多外部客户选择三星逻辑代工+HBM+先进封装“交钥匙”方案,并且存储器业务部门所生产的先进HBM内存自然不会缺乏销路。然而,由于目前三星未能实现这一良性循环,导致整个半导体业务处于危机状态。据韩媒预计,在集团年度管理层调整中,三星电子DS部可能会经历高管大洗牌。三大业务部的负责人均有可能被更换。这一调整预计将于本月内进行,早于通常的12月初。值得注意的是,三星今年5月意外地在年中就更换了DS部总负责人,由全永贤接替庆桂显。这一人事变动引发了业界的关注。

本文 htmlit 原创,转载保留链接!网址:https://dgghz.com.cn/keji/4947.html

可以去百度分享获取分享代码输入这里。
声明

1.本站遵循行业规范,任何转载的稿件都会明确标注作者和来源;2.本站的原创文章,请转载时务必注明文章作者和来源,不尊重原创的行为我们将追究责任;3.作者投稿可能会经我们编辑修改或补充。

发表评论
搜索
排行榜
标签列表